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| | 设备简介： 流化床化学气相沉积（Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition, FBCVD）技术的三温区立式管式炉。FBCVD技术是在炉内的流化床区域内进行，其中固体颗粒在上升的气体流作用下呈现类似于液体沸腾的状态，这样不仅能够增加物料与反应气体的接触面积，还能够促进均匀受热和反应物质的高效转化，常用于制备薄膜、粉末等各种材料。 此设备除了具备普通三温区管式炉的基本特征外，还针对流态化反应进行了优化设计，例如强化气体流动和分布、确保流化床区域的稳定流态化状态等。在实际应用中，它可以用于碳纳米管、石墨烯等材料的生长，以及催化剂的制备和改性等领域。 | ||
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