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面议尼康公司(东京港区总裁 Kazuo Ushida)发布了一代尼康 ArF 浸入式扫描仪 NSR-S631E。该光刻系统专为大批量半导体制造中的 7 纳米节点工艺而开发。它支持多重图案* ,并具有经过验证的Streamlign平台(也用于的 NSR-S630D)的高精度和出色的生产力。NSR-S631E 可满足下一代客户的制造要求,进一步提高覆盖和产量,这在多重图案化工艺中至关重要。
NSR-S631E通过使用新型投影镜头以及改进的对准系统标记检测和测量,提供 2.3 nm 或以下的混合匹配覆盖 (MMO * )。S631E 还可以通过每小时高达 270(96 次)晶圆的生产能力限度地提高晶圆厂的生产力。
结合用于晶圆载物台位置测量的编码器和干涉仪的混合系统,分划板载物台位置使用 2D 编码器进行测量。这使得每个平台的位置测量不受空气波动的影响,从而提高了叠加精度。
通过将现场图像对准 (FIA) 显微镜的数量增加到五个(五眼 FIA)*,可以在更短的时间内执行对准测量。五眼 FIA 可将吞吐量损失降至,即使必须测量多个点(几乎等于全部镜头数量)也是如此。
分层模块化结构意味着在客户现场启动设备所需的时间更少,并简化了系统维修。这大大提高了可维护性。
S631E 采用新开发的投影镜头设计,提供更好的像差校正功能,以确保的成像性能。此外,创新的测量光学系统提高了产品的对准和聚焦精度。