Nikon KrF扫描光刻机NSR-S210D产能达到176wph，对应110nm以下设备的量产

性　能

Resolution 分辨率≦ 110 nm

NA NA 0.82

Exposure light source 曝光光源KrF excimer laser (248 nm wavelength)

Reduction ratio 缩小倍率1:4

Maximum exposure field zui大曝光范围26 mm × 33 mm

Overlay 重合精度≦ 9 nm

Throughput 产出≧ 176 wafers/hour (76 shots)

KrF扫描光刻机“NSR-S210D”通过装载取得业绩的串联台，生产效率比以往机型提高了20%。实现了每小时生产176片300mm晶圆的高产出，更将对准精度提高至9nm以下。以高生产效率、高精度实现110nm以下设备的量产。