ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，产能205wph。

主要特点和优势

TWINSCAN XT:1060K 248 nm 步进扫描系统是一款双阶段光刻工具，具有业内的 NA 和生产率，专为 300 mm 晶圆生产而设计。扩展关键KrF技术可降低我们客户的每层成本，同时让他们受益于成熟的 KrF 处理。

XT:1060K 是 2X nm 技术节点及以上技术节点的金属、通孔和注入层的理想选择，适用于内存和逻辑应用。

此外，我们还为其他 TWINSCAN KrF 系统提供成像匹配，并为 TWINSCAN ArF 和 KrF 系统提供出色的叠加匹配，从而实现在大批量制造环境中的无缝集成。

01. 生产力

具有可变频率控制的高线窄 40 W KrF 激光器与光学系统的高光传输相结合，以尽可能低的运营成本提供每小时 ≥ 205 300 mm 晶圆的生产吞吐量。

02. 光学

具有*镜头操纵器的在线折反射镜头设计支持完整的 26 x 33 mm 视场、4X 缩小和与现有折射设计的标线兼容性。AERIAL-E 照明器可通过扩展变焦实现连续可变的常规和离轴照明，从而保持高吞吐量。

03. 成像性能

XT:1060K 配备了的覆盖改进，允许客户实现 ≤ 3.5 nm（全晶圆）的专用卡盘覆盖和 ≤ 5 nm（全晶圆）的匹配机器覆盖。

其 LithoGuide ILIAS 允许极其准确的系统设置和复杂的成像参数监控。