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面议Canon Anelva二手物理气相沉积PVD设备FC7100于2011年开始投入使用，适用于12英寸晶圆。
能够通过超高真空共溅射控制薄膜成分。
高精度控制（0.1nm单位）膜厚和优异的均匀性（1σ<1%）。
兼容亚32nm节点或更小的镶嵌栅形成工艺。
（使用 PCM-PVD 方法进行高覆盖率沉积）。
通过使用紧凑型阴极降低材料成本。轻松更换材料。
