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面议The SUSS MA/BA6 SUSS MA/BA6 掩模对准器被广泛认为是半导体微米研究和微系统生产的基准。凭借其创新设计，该平台可满足客户对精度、灵活性和低成本的需求。 在实验室环境中，在 MA/BA6上设计的工艺很容易转移到自动 SUSS 掩模对准器上进行批量生产。
主要特色： +顶面/底面/红外线对准 +定制照明可减少衍射曝光光学 +手动或自动台 +从 2mm到150mm 的晶圆或方形加工 +处理易碎、翘曲或不平整的晶片和碎 片 +顶部小至几毫米的碎片通过底边对齐 +高精度键合对准 +用于全晶圆纳米范围的压印光刻 
