热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积设备

热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积设备

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-05-27 11:25:38
127
产品属性
关闭
青岛佳鼎分析仪器有限公司

青岛佳鼎分析仪器有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率

详细介绍

AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外,可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。

热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积设备

主要特点和优点

成膜效率高

通过提供几十毫秒量级的脉冲,减少了原材料的损耗,提高了沉积效率。

真空清洁,温度不均匀性小

通过紧贴反应室内壁的内壁加热器,抑制反应室的温度不均匀,可获得清洁的真空。

无针孔成膜

由于多种前驱体在反应室中没有混合,因此可以防止颗粒,形成无针孔的薄膜。

应用

用于下一代功率器件的栅极氧化膜和钝化膜。

在3D结构上形成均匀的薄膜,如MEMS。

激光表面的沉积

碳纳米管的钝化膜

AL-1无针孔薄膜沉积设备内部图

上一篇:NLD4000型原子层沉积案例解析 下一篇:茶叶检测仪技术指标
热线电话 在线询价
提示

仪表网采购电话