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分析仪器物理仪器光学二次元三次元投影仪-能散型XRF
面议二手刻蚀机OXFORD PLASMALAB 800 PLUS现货供应
面议OXFORD IONFAB 300 PLUS二手刻蚀机
面议OXFORD NGP 1000 TR二手刻蚀机现货供应
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面议刻蚀机二手现货供应OXFORD PLASMALAB 80 PLUS
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面议MATTSON ASPEN II二手刻蚀机现货供应
面议MATTSON二手刻蚀机 ASPEN III现货供应
面议MATTSON ASPEN III NEXION二手刻蚀机现货供应
面议二手刻蚀机现货供应MATTSON PARADIGM
面议PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的锁载等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统。
该系统由于采用了大型反应室,并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理,因此产量较高。在直径360mm的区域内可以沉积出具有优异的厚度均匀性和应力控制的薄膜,具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择,具有优异的重复性。
加工范围:ø360 mm (ø3" x 9, ø4" x 6, ø6" x 3)
优异的均匀性和应力控制
的工艺稳定性和可重复性
坚固的系统,的运行/维护成本
用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。
SiH4-SiNx
SiH4-SiO2
液体前驱体(SN-2)SiNx。
TEOS-SiO2