Turbo-V 3K-G-Turbo-V 3K-G涡轮分子泵-杭州庚雨仪器有限公司手机版

详细介绍

Turbo-V 3K-G（如 V 2K-G 一样）不仅仅是一台泵。它是专门为等离子溅射工艺精心设计的专用分子泵系统。其叶片级数和泵的整体结构均经过优化，可以工作在高纯氩气氛围下和温度*的环境中。此外，它还拥有内置的控制器件、一体化的放空和吹扫阀以及免维护的轴承。所有这些特点使 Agilent Turbo-V 3K-G 涡轮分子泵成为镀膜工业出色的解决方案。

特性：

1，“一体化”系统
2，同类产品中抽速更高
3，无油、耐用、可靠
4，MTTF 超过 200000 小时
5，转子设计大幅度降低了重量和机械应力
6，拥有的转子轴配合技术可大大降低转子拉伸应力
7，采用了安捷伦 A-PLUS 软件（原 T-plus）

涡轮分子泵应用范例：

安捷伦涡轮分子泵包括集成泵组和多流路泵，其设计旨在实际应用中达到更高性能。泵的紧凑型设计满足工业中的严苛空间要求。涡旋分子泵几乎不需要维护，并可避免错误使用。无论您是终端用户还是原始设备制造商，安捷伦均可针对您的应用为您提供帮助和支持，或定制适合您的需求的系统

领域	应用	详细说明
质谱和分析仪器	针对质谱系统优化的全系列泵和控制器具有多入口泵组的定制泵低成本、易于使用、高分析性能对于 GC/MS，提供用于相对低气体载荷环境的 1 个真空室和用于分析无机样品的中等真空接口对于 LC/MS，需要提供多室、高通量真空系统对于 ICP-MS，提供多种真空系统，包括用于氩气等重载气的泵和使用氦气的碰撞池对于 TOF 系统，需要较小尺寸、高通量和高效的散热设备	质谱 GC/MS LC/MS ICP-MS TOF
科研中的真空应用	非常清洁、可靠和高性价比的 HV 和 UHV 粗真空轴承未暴露于 UHV，降低了污染高速和高压缩可以以任意角度安装联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体	高能物理融合技术一般 UHV 研究同步光源粒子加速器
工业真空加工	为薄膜沉积应用而专门设计的集成分子泵解决方案适用于原始设备制造商和终端用户的专业性能适用于具有预真空锁或大型内联连续系统的单室批量系统和多室系统的泵	薄膜沉积：玻璃涂层设备（建筑和汽车玻璃，平板显示器）薄膜太阳能电池生产（光电）光学数据介质（CD、DVD、磁光光盘）磁性存储介质表面处理光学涂层（眼科、精密光电）膜或箔上的辊式/卷绕涂覆设备加工：生产电视机和显示器显像管疏散灯（高速公路照明、投影机） X 射线管和电子设备一般工艺：真空炉/冶金
纳米技术仪器	分析从有机化合物到半导体晶片等各类物质全系列的高真空和超高真空泵特别适用于要求严苛的 SEM、TEM 和表面分析系统低振动涡旋泵适用于敏感的显微分析可快速、无油式排空大型样品室内的气体集成的泵控制器可灵活进行控制，几乎不生成电磁噪音非常适合为半导体生产创造合适环境高转速确保能够以高泵速抽空半导体生产中释放的轻质气体（He、H）符合高速循环应用的严格要求，例如真空装载锁通过对多个涡旋泵联用一个前级泵，可提高工具的可靠性联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体安装于支架上的控制器或一体式控制器允许将电子设备放置于远处	电子显微镜（SEM、TEM）聚焦离子束系统 (FIB) 表面分析半导体制造

技术规格：

抽速：	N₂：2200 L/s	He：1900 L/s	Ar：2050 L/s
压缩比：	N₂：> 1 × 10⁷	He：6 × 10³	Ar：1 × 10⁸
*极限真空（使用推荐的前级泵）**	< 1 × 10^-8 mbar
入口法兰	ISO 250F
前级管道法兰	KF 40 NW
额定转速	31800 rpm
使用推荐前级泵，无气体负载的启动时间	< 6 分钟
前级压力	< 0.5 mbar
推荐的最小前级泵	> 60 m³/h（取决于气体流速要求）
工作位置	任意位置
冷却要求	水
重量 ISO (250)	52 kg（114.63 磅）

* 根据德国工业标准 (DIN) 28 428。

Turbo-V 3K-G 外形图

Turbo-V 3K-G 抽速与入口压力关系图

Turbo-V 3K-G 压缩比与前级压力关系图

产品简介

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