超声波二氧化硅分散设备 超声波萃取仪(超声波萃取器)

GB-SS-2600F超声波二氧化硅分散设备 超声波萃取仪(超声波萃取器)

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具体成交价以合同协议为准
2022-10-08 09:03:29
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杭州谷邦超声波科技有限公司

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产品简介

超声波二氧化硅分散设备具有以下特点:
1.较传统高剪切,分散速度提高至少20倍。
2.分散效果好,颗粒细,在合理的环境下,可以分散到40nm以下。
3.分散稳定性强。

详细介绍

超声波二氧化硅分散设备具有以下特点: 
1.较传统高剪切,分散速度提高至少20倍。 
2.分散效果好,颗粒细,在合理的环境下,可以分散到40nm以下。 
3.分散稳定性强。 
4.节能,环保。

超声波二氧化硅分散设备详细介绍

二氧化硅(SiO2)是一种多功能陶瓷材料,已在各种行业中用于改善各种材料的表面和机械性能。 在许多产品配方中,例如塑料,合成橡胶,胶粘剂,密封胶,油漆和涂料或绝缘材料中,它可用作填料,性能添加剂,流变改性剂或加工助剂。 特别是将硅粉(无定形二氧化硅)或微硅粉添加到混凝土中,以提高混凝土强度和耐久性。 硅粉还用于耐火混凝土中,以通过改善颗粒堆积来降低孔隙率并提高强度。

二氧化硅(SiO2)有多种亲水和疏水形式,通常以极细的粒度使用。 二氧化硅在润湿后不能很好地分散。 它还会在产品配方中添加大量微气泡。 对于大多数二氧化硅应用而言,良好且均匀的分散性很重要。 特别是当用于涂料和清漆中以改善耐刮擦性时,二氧化硅颗粒需要足够小以不干扰可见光以避免雾度并保持透明性。 对于大多数涂料,二氧化硅需要小于40nm才能满足此要求。 对于其他应用,颗粒团聚会阻止每个单独的二氧化硅颗粒与周围介质相互作用。在实验室中, 使用小型超声波二氧化硅(SiO2)分散设备处理二氧化硅混合溶液30分钟, 溶液逐渐由浑浊变清晰,说明二氧化硅颗粒逐渐减小,超声波二氧化硅(SiO2)分散设备的处理效果明显。 超声波处理已被证明比其他高剪切混合方法更有效地分散二氧化硅。

超声波二氧化硅(SiO2)分散设备设备参数:

 

频率:           20Khz

超声功率        3000W

输入电压        220V/110V,50Hz/60Hz

振幅范围        10~100μm

振幅精度        ≤1μm

空化强度         4~4.5w/㎡

反应釜容积      50L(可定制)

电机功率         3000W

电机转速         0~3000rpm

输送流速         0~3T/H(可定制)

温控范围         -10~100℃(可定制)

温控方式         冷却夹套

控制方式         按键控制或自动化控制(可定制)

 

 

 

 

 

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