全息光栅通常用于对杂散光的应用中。其基底镀有光敏材料，将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间，使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹，条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定，干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。
平面全息光栅
全息光栅通常用于对杂散光的应用中。其基底镀有光敏材料，将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间，使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹，条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定，干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。由于全息光栅刻线形状以及刻线间距是*一致的，所以产生的杂散光远少于刻划光栅。全息光栅可以采用两种凹槽轮廓，正弦和闪耀。
| 刻线 | 600~4500Lines/mm |
| 闪耀波长 | 150-1000nm |
| 尺寸公差 | ±0.5mm |
| 材料 | K9 |
| 镀膜 | 铝 |
| 类型 | 反射衍射光栅 |
| 编号 | 刻线密度 | 光谱范围 | 闪耀或峰值波长 | 刻划面积 |
| （l/mm） | （nm) | （nm） | （H×W mm2） |
| GH-111 | 1200 | 190-800 | 220 | 64×64 |
| GH-112 | 1800 | 190-1000 | 250 | 64×64 |
| GH-113 | 2400 | 190-800 | 250 | 70×100 |
| GH-114 | 3600 | 170-500 | 190 | 70×100 |
| GH-115 | 4321 | 160-450 | 170 | 58×58 |
