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OA-ICOSTM工业痕量气体分析仪旨在以优异的灵敏度、准确度、精密度和响应时间,满足客户的苛刻要求。它简单易用,可在几分钟内启动,无需现场校准,并且只需极少的预防性维护。
该系列气体分析仪非常适用于:
1. 空气分子污染(AMC)监测:用于确保半导体晶圆厂(FAB)工艺和人员的健康安全
2. 前开式晶圆传送盒(FOUP)和气相沉积室监测
与传统的光腔衰荡光谱技术相比,离轴1COS技术具有诸多优势,例如:更加可靠耐用、更短测量时间、使用的光腔和反射镜可现场维修。
所有ABB仪器均内置计算机(采用Liux操作系统),该计算机会将每次分析的结果和相关指标存储在内部硬盘上,从而实现无需人员值守的长期运行。相关数据则可以通过模拟、数字(RS232)和ModbusTM1的输出方式源源不断地导出。此外,这系列仪器还可以通过互联网远程控制,用户无需身处现场,就可以控制仪器、从仪器中获取数据,以及对仪器进行诊断。该系列仪器还可以保存所测气体的完整光谱,用于故障排除,甚至在过程发生意外变动后,远程优化分析仪。
二、产品优势
1. 支持HF、HCI、NH3的单气体或多气体配置
2. 提供高精度、准确的H,O测量结果
3. 提供0-5V和4-20mA模拟输出(标配),以及Modbus TCP(选购)
4. 优化数据处理,在测量亚ppb级别浓度时,实现优异性能
5. 提供触控数字显示屏,显示气体浓度和分析仪的状态
6. 提供主要密码保护,确保分析仪和数据安全
7. 经过优化的零气性能,以可靠地确认过程事件
8. 提供可定制的校准套件和性能认证文件包
9. 坚固耐用;所需的维护工作很少并且花费较低
10. 可轻松更换长期受到污染的部件(过滤器)和正常老化部件(泵隔膜)
11. 服务工程师可现场诊断并更换其他大多数部件
12. 镜面清洁可现场进行,无需在工厂费时维修
三、技术参数
GLA231-EAA
项目(气体) | NH3 | H2O |
精度(1σ) | <1ppb(1秒) <0.3ppb(10秒) <0.1ppb(100秒) | <50ppm(1秒) <20ppm(10秒) <10ppm(100秒) |
检测限(LOD) | 0.3ppb(100秒) | 50ppm(100秒) |
准确性* | ±0.3ppb,或读数的5%,以较高者为准 | >7,000ppm =1%FSD |
不同分析仪的结果差异(相对于平均值,10秒) | ±0.4ppb,或读数的5%,以较高者为准 | ≤1000ppm =±10% |
线性测量范围 | 高达10,000ppb | 高达30,000ppm |
样品流量(lpm) | 1.4-2.4 | |
响应时间(T90,T10) | 10秒 |
GLA231-HFHC HF
项目(气体) | HCL** | HF | H2O |
精度(1σ) | <0.3ppb(1秒) <0.1ppb(10秒) <0.035ppb(100秒) | <0.1ppb(1秒) <0.05ppb(10秒) <0.025ppb(100秒) | <25ppm(1秒) <10ppm(10秒) <5ppm(100秒) |
检测限(LOD) | 0.1ppb(100秒) | 0.075ppm(100秒) | 25ppm(100秒) |
准确性* | ±0.15ppb,或读数的5%,以较高者为准 | ±0.1ppb,或读数的5%,以较高者为准 | >7,000ppm =1%FSD |
不同分析仪的结果差异(相对于平均值,10秒) | ±0.2ppb,或读数的5%,以较高者为准 | ±0.2ppb,或读数的5%,以较高者为准 | ≤1000ppm =±10% |
线性测量范围 | 高达2,000ppb | 高达2,000ppb | 高达30,000ppm |
样品流量(lpm) | 1.1-1.9 | ||
响应时间(T90,T10) | 25秒 | 25秒 |
一般参数:
测量速率:0.01-1Hz(用户可选)
采样条件:
1. 工作温度:0°-45°C
2. 环境湿度:相对湿度<99%,无凝露
3. 入口压力:分析仪入口处为0-0.35巴(0-5磅力/平方英寸)
数据输出:RS232、模拟、以太网、USB、ModbusTM:TCP/IP
电源要求:170W(稳态);配备ACC-DP3H外置泵时,最大功率为290W
尺寸(高X宽X深):22×48×61厘米(8.75×19×24英寸)
重量:29公斤(64磅)
标志和认证:CE、CSA、IEC CB体系