概论：光谱型参比椭偏仪

椭偏技术对表界面非常敏感，百年来一直被用于各种薄膜的光学分析测量。它的基本原理是，当一束偏振光经过样品表界面反射之后偏振状态会发生变化。并且，如果样品表面是一层薄膜（或者多层薄膜堆叠），整个薄膜/基底的光学系统信息对反射光束的偏振状态都有影响。因此，通过椭偏方法可以对薄膜的厚度和其他性质进行分析。

参比椭偏仪Nanofilm_RSE是一种特殊类型的椭偏仪，它通过将参比样品被和测样品进行比较，测量它们之间的差异从而对被测样品进行椭偏分析。由于参比椭偏仪Nanofilm_RSE光学系统的精巧设计，在测量过程中没有任何需要转动或者调制的光学部件，并且可以在单次测量中获得完整的、高分辨率的光谱椭偏数据。通常每秒钟可以测量获得上百个光谱椭偏数据。通过配备同步的X/Y二维自动样品台可以在数分钟内测量获得大面积样品的薄膜厚度分布图。

仪器特点：光谱型参比椭偏仪

该仪器光路设计巧妙、稳定性好、测量精度高。测量速度超快，可快速测量大面积样品厚度分布，适用于质量检测等需要测量大批量样品的领域。参比样品更换简单（三个参比样品组覆盖绝大部分应用）。简单易用，使用者无需对椭偏技术有深入了解。适用于晶圆检测/太阳能电池组分析、缺陷检测/污染控制，均质石墨烯薄膜测量，薄膜生长过程控制/动态测量等等。