批量晶圆等离子体清洗机采用pvatepla等离子体清洗和等离子体去胶技术,其中GIGAbatch 310M是最小的批量晶圆等离子体处理机,非常适合实验室和大学使用。
批量晶圆等离子体清洗机特点
桌面版的基本结构；
为第二个气体管道提供空间
腔室可容纳多达25个直径为150 mm的晶圆，
可以作为石英舟中的一批晶圆，也可以作为带有特殊加载装置的单一基板
各种配件可供个人配置
等离子体发射功率高达600W
批量晶圆等离子体清洗机原理
等离子体处理系统都遵循相同的等离子体产生原理：直接耦合真空室中大气侧的高频激励。进气口位于腔室的一侧，真空吸盘位于腔室的另一侧。这种腔室几何结构实现了特别一致的工艺结果。
批量晶圆等离子体清洗机使用一代处理器、基于Linux的平台作为操作系统，以及图形用户界面（GUI）。因此，可以手动和全自动控制工艺，并通过MFC控制工艺气体。在这个过程中，所有参数都会写入配方并存储在数据库中。同时，压力、气体流量、输出等的当前值显示在显示屏上，如果偏离目标值，则会触发相应的警报。