等离子国华干式等离子、湿式超声波清洗机的区别-中大型PLC
国华干式等离子、湿式超声波清洗机的区别:等离子清洗机由国外引入国内市场的时间并不长,对大多数企业来说,还属于新型工艺设备。随着社会的发展及进步,消费者对产品的质量要求越来越高,正是这一契机,等离子清洗机开始进入我们的日常生活,其应用也越来越广泛。 参考价¥30000GH-60国华等离子清洗机气体电离颜色与众不同-中大型PLC
国华等离子清洗机气体电离颜色与众不同:真空低压等离子清洗机处理材料或产品,根据工艺要求和处理目的不同,就会选择通入不同的工艺气体,而这些工艺气体电离以后会发出各种美丽的光,为什么会有这样的现象,昆山国华电子来告诉您。 参考价¥30000GH-216国华电子等离子清洗机为什么要使用冷却工艺-中大型PLC
国华电子等离子清洗机为什么要使用冷却工艺冷却水,这是工业生产中较常用的温度控制介质,应用非常广泛,按应用类别分主要分为无尘车间冷却、工艺设备冷却及生产制程冷却等,在等离子清洗机中的应用就属于工艺设备冷却。很多人可能会想,等离子清洗机不是低温等离子体的应用设备吗,为什么会用到工艺冷却水,又是如何正确使用呢? 参考价¥30000GH-PTF 2002昆山国华等离子清洗机的气体调压使用-中大型PLC
昆山国华等离子清洗机的气体调压使用: 压缩气体是现代工业*的组成部分,工业中常见的压缩气体主要包括压缩空气(CDA)和瓶装压缩气体。压缩空气被称为第二动力源,仅次于电力,而且还是一种具有多用途的工艺气源;工业用的瓶装压缩气体通常盛装于管制气瓶内,盛装的气体压力通常在13-15MPa,其优点是节约空间、安全且便于运输。 参考价¥30000GH-80昆山国华电子带您读懂半导体设备-中大型PLC
昆山国华电子带您读懂半导体设备: 因为半导体制造工艺复杂,各个不同环节需要的设备也不同,从半导体的流程分类来看,半导体设备主要可分为硅片生产过程设备、晶圆制造过程设备、封测过程设备等。这些设备分别对应半导体的硅片制造、集成电路制造、封装、测试等工序,分别用在半导体集成电路生产工艺的不同工序里。 参考价¥30000GH-160P国华等离子清洗与传统湿法清洗比较优势-中大型PLC
国华等离子清洗与传统湿法清洗比较优势:GH-216昆山国华等离子设备对手机COF封装处理-中大型PLC
昆山国华等离子设备对手机COF封装处理:GH-24国华等离子表面处理与我们日常生活-中大型PLC
国华等离子表面处理与我们日常生活:DRP500国华等离子表面改性、活化、刻蚀、纳米涂层-中大型PLC
国华等离子表面改性、活化、刻蚀、纳米涂层:等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗、刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体越来越稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长,受磁场作用,发生碰撞而形成等离子体,同时会发生辉光。 参考价¥30000DRP800国华电子为您解析等离子表面处理工艺-中大型PLC
国华电子为您解析等离子表面处理工艺:等离子表面处理:这种电离气体是由原子,分子,原子团,离子,电子组成。其作用在物体表面可以实现物体的超洁净清洗、物体表面活化、蚀刻?、精整以及等离子表面涂覆。 · 参考价¥30000GH-160P国华电子告诉你等离子清洗机放电原理-中大型PLC
国华电子告诉你等离子清洗机放电原理:大气等离子清洗机介质阻挡(DBD)这一放电形式,又称为无声放电,自发现以来,已经有一百多年的历史了,介质阻挡的放电形态通常呈现为大量的放电细丝起此彼伏。正如大多数研究对象一样,大气等离子清洗机介质阻挡放电也同样经历了一个漫长的研究历史,接下来就给大家进行科普介绍: 参考价¥30000GH-15MH国华等离子清洗机处理精密金属电子元器件-中大型PLC
国华等离子清洗机处理精密金属电子元器件,具体的原理是怎样的?昆山国华为您在此解说 参考价¥30000