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DWL66+激光光刻系统是一个经济的，高分辨率模式发生器为低容量掩模制造和直写。这个系统的灵活性和功能让最终的光刻研究工具用于微电子机械系统，生物微机电，微光学，专用集成电路，微流体，传感器，计算机全息技术，还有其他的微型机构的应用。用DWL66+的客户在世界范围内包含了超过150个的大学和研究设备处。这个系统的很多功能一直在与这些机构进行密切的合作开发。
重要特征选项
基板尺寸9”x 9”
最小描绘尺寸0.6um
最小描绘网格10nm
*的灰度曝光模式
实时的自动对焦系统
客户特定激光源
矢量和栅格曝光模式
可交换的写模式
摄像系统计量和校准
前后面对齐
人工气候室
多种数据输入格式
用户编程接口
技术参数
写入模式 | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 |
地址网格（nm） | 10 | 20 | 25 | 50 | 100 | 200 |
最小结构大小（um） | 0.6 | 0.8 | 1 | 2 | 4 | 7 |
写速度（mm^2/min） | 6 | 25 | 39 | 145 | 500 | 1000 |
边缘粗糙度（3σ，nm） | 50 | 70 | 80 | 110 | 160 | 240 |
线宽均匀度（3σ，nm） | 60 | 80 | 100 | 180 | 250 | 500 |
线条测量精度（3σ，nm） | 100 | 120 | 150 | 250 | 400 | 800 |
