HI84100采用滴定分析方法快速测量残留二氧化硫和总二氧化硫含量。在食品加工领域，二氧化硫的主要应用是进行防腐。以葡萄酒为例，当有氧存在时将与二氧化硫发生反映，起到抗氧化的作用，进而保证酵母菌的正常发酵，并抑制其他杂菌。

• 基于微电脑控制技术，集滴定分析，磁力搅拌和电极测量于一体
• 性能优良操作简单，可直接显示测量结果
• 人性化设计，具有稳定标识和校准信息等显示功能
• 残留二氧化硫浓度取决于三个因素：总添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常残留二氧化硫浓度为0.8ppm即可保证抗氧化和净化杂菌的作用
• 当残留浓度超过2.0ppm时，即被人感知到，因此以此浓度作为上限值。

型号 HI 84100

滴定范围 0 to 400 ppm of SO2

滴定方法 等电位氧化还原滴定法

滴定精度 读数的5%

取样量 50 mL

ORP电极 HI 3148B

供电方式 220V/60 Hz；10VA

使用环境 0 to 50°C (32 to 122°F)；RH max 95%

尺寸重量 208 × 214 × 163 mm；2200 g