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深圳市所在地
产品优势
● 用于瞬时过程监测的镀膜工艺监测器离子源
● 用于 H2、O2、H2O 和 CO2 的优秀检测限
● 对测量结果的最小化背景影响
● 压力高达 10 hPa 的压差版本
● 多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
● 灵活集成的紧凑尺寸
● 通过各种数字和模拟输入和输出，使系统集成方便而灵活
典型应用
● 在高达 10-2 hPa 的压力下，镀膜工序的分析可精确到分钟
● 真空镀膜系统的制造商和操作员
● 半导体生产
● 玻璃镀膜
● 薄膜太阳能电池发电
● 研发
