珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

仪表网高级6

收藏

NexION 2000S ICP-MS 检测高硅基体样品中的微量磷杂质

时间:2020-05-21      阅读:883

 本文应用PerkinElmer创造的去除干涉技术—UCT(通用池技术)功能的NexION 2000S ICP-MS检测对含有大量硅的Hydrofluoric Acid介质中的磷的分析。

上一篇: ICP-OES 分析高浓度钯(Pd)内的微量硒 (Se) 下一篇: NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析

下载此资料需要您留下相关信息

对本公司产品近期是否有采购需求?

提示

仪表网采购电话