Optima 8000电感耦合等离子体发射光谱仪技术规格

1．设备用途及总体要求：

用于对各类样品中主量、微量及痕量元素的定性、半定量和定量分析。仪器以固体检测器为基础，由进样系统、高频发生器、等离子体炬、光路系统、检测器、分析软件和计算机系统组成，全自动控制，仪器监控仪表全部由计算机控制，任何仪器参数都不需要手动调节的全谱直读型台式等离子体发射光谱仪。

2．设备总体性能：

2.1动态范围 ：³ 10⁶，具有同时准确分析出中量（1%以上）、常量（0.01%）和微量（1ppm以下）元素的实际样品用户应用实例。具有同时准确分析主量（50%以上）和常量（0.01%）元素的实际样品用户应用实例。

2.2分析速度 ： ³ 15 个元素/分钟，且实施背景校正。

2.3精密度 ：1ppm 混合多元素溶液。CV<0.5%。

2.4 稳定性 ：1小时RSD<1%， 4小时RSD<2%。

2.5分辨率 ：在200nm处，像素分辨率 ：£0.003nm。

2.6 检出限，以1ppm混标测量建立仪器的灵敏度，以6次空白溶液测量的3s强度所对应的浓度计算检出限，所有下列检出限必须在同一个仪器参数下同时做出。

2.7灵敏度

旋流雾室和同心雾化器（单位：cps/ppm）

Mn 257.610nm > 8.5×10⁶，Al 396.153nm > 1×10⁶，Ni 231.604nm > 3×10⁵

As 193.696nm > 1.5×10⁴，Pb 220.353nm > 5×10⁴，P 213.617nm > 3×10⁴

2.8 具有高纯气体中痕量杂质分析的能力和用户应用实例。可以分析高纯氮气、氢气、氦气中0.1微克/升以下含量的杂质。

2.9 具有99.99%高纯材料（例如高纯石英砂）中痕量杂质分析的能力和用户应用实例。

2.10 具有镀铝锌板、锆铁合金、钛合金、铝铁锰青铜、铸造铝合金、耐磨铸铁、变形铝合金、铅黄铜、黄金合金、催化剂、电镀液等冶金材料中痕量杂质分析的能力和用户应用实例。

2.11 具有土壤、沉积物、植物、沉积岩、硅灰石、水、动物组织、纺织品、松香、植物油、化妆品、食品、中药、西药等样品类型中痕量杂质分析的能力和用户应用实例。

3．进样系统

3.1 雾化器：标配耐HF酸耐高盐分的雾化器，耐： 50% (v/v) HCl、HNO₃、H₂SO₄、H₃PO₄，20% (v/v) HF，30% (w/v)NaOH以及30%的高盐样品。

3.2 雾化器喷嘴为红宝石和蓝宝石材料制成。

3.3 雾室：标配耐HF酸耐高盐分样品。

3.4 雾室为不亲水的高强度高纯氟塑料材料制成。

3.5 分析含HF、HCl、HNO₃酸等各种样品，雾化器和雾室的使用寿命不少于5年，并有超过5年的用户使用实例。

3.6炬管为可拆卸式结构，炬管中心管标配为刚玉材料，其使用寿命不少于5年，并有超过5年的用户使用实例。

3.7炬管和雾化器、雾室为一体式设计，从雾室到炬管无需任何管线连接，以减小样品分析时的记忆效应，且炬管和雾化器、雾室可以同时安装同时拆卸，安装和拆卸无需任何工具，安装和拆卸时间不超过1分钟。

3.8等离子体和进样系统分别在两个室内，以减小等离子体的高温对雾化器、雾室的影响。

3.9 蠕动泵为内置三通道水平式全自动设计，蠕动泵进样量从0.1毫升/分钟到5.0毫升/分钟连续可调，并且具有冲洗功能，在分析完高盐分样品后智能快速冲洗以提高分析速度。

3.10 进样系统具有温度控制系统，当环境温度变化较大时，温度控制系统可以较小环境温度变化的对雾化器雾化效率的影响，以提高仪器的稳定性。

4．射频发生器和等离子体

4.1 类型：自激式射频发生器，无需大功率管。

4.2 频率：40.68MHz。

4.3 功率：750W～1500W，1W增量连续可调。

4.4 功率稳定性优于0.1%。

4.5 射频发生器的功率传输效率优于81%。

4.6 射频辐射防护满足FCC管理规范Part 18的要求，同时符合EC和VDE 0871的B级射频辐射防护要求。在等离子体点燃的情况下，操作者依然可以安全地调节炬管的位置。

4.7 等离子体为水平式，观测方式有水平和垂直两种，在一次分析中可以采用水平和垂直两种观测方式，由软件控制全自动切换，并同时给出两种观测方式的测量结果。

4.8 等离子体的点燃为全自动控制，除ICP-OES的主机电源外，诸如载气流量等所有操作参数都无需手动调节。操作者可以设定仪器自动开机的时间，以及分析完

样品后自动关机的时间，自动关机和开机的整个过程都无需操作者参与。

4.9 仪器具有全面的安全连锁保护，随时监测循环水机的水流、各种气体的压力等参数，即使操作者出现误操作，也不会对仪器造成损坏和人员的伤亡。

4.10 由于射频发生器的很多参数无法进行验收测试，所有上述数据以仪器制造商英文原版印刷材料为准。

4.11 免维护的平板等离子体设计，通过两块铝板形成等离子体，铝板无需循环冷却水进行冷却，长寿命，终身免维护。

4.12 等离子体正常运行的氩气消耗总量小于10升/分钟。

4.13 等离子体具有实时全彩色摄像系统，操作者在仪器的控制软件中可以实时全彩色看到等离子体的运行图形，并观察炬管、炬管中心管是否变脏需要清洗。

5．光学系统和检测器

5.1光学稳定性：光学系统密闭并可以进行吹扫，与进样系统设计在一个平台上，整个光学系统具有防震措施，一般的地面震动不影响其分析性能。

5.2系统类型：高性能二维(交叉)色散中阶梯光栅(棱镜)，波长范围：160-900nm，具有3万条以上的谱线库，每条谱线至少可以选择30个象素点进行测量。对于常见元素Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn，软件的默认推荐谱线不少于5条。

5.3光路设计简单、可靠，中阶梯光栅的闪耀角在60度以上，中阶梯光栅刻线密度在60条/mm以上。

5.4 焦距200 mm－650mm。

5.5 检测器必须是专门设计用于ICP-OES分析的固态检测器，且无紫外线转换荧光涂层，无老化问题。

5.6低紫外 (<190nm) 谱线可以采用氮或氩气吹扫，吹扫的气体流量由软件控制，并具有正常吹扫和高流量吹扫两种模式可选。

5.7内建氖灯自动进行波长校正，每一条谱线在使用前都不需要用标准溶液进行谱线定位。仪器在*关机的情况下开机，两分钟之内即可进行分析测试投入运行，无需长时间的预热。

5.8 在光学设计上强光和弱光测量不能采用同样的积分时间，以避免检测器的损坏，表现在仪器的软件上为积分时间自动确定，随样品中元素含量的不同而自动变化，无需人工设置积分时间。

6．分析软件：

6.1软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，软件为全中文多任务操作，即在分析样品的同时，能同时进行数据处理，并处理和打印全中文报告。控制软件可以在中文版Windows XP下运行，可以脱离仪器安装在其它计算机上进行模拟运行（模拟等离子体点火、熄火、样品分析），同时模拟软件具有数据处理功能，以便于教学、演示和培训。

6.2具有元素间干扰校正技术、谱线拟合干扰校正技术和实时背景扣除功能等不少于3种干扰校正技术。

6.3每一条谱线的积分时间都可以自动优化，无需使用者进行估计，软件会根据样品中元素的含量自动进行选择。

6.4软件设计全面符合电子签名管理的21 CFR Part 11管理法规；

6.5全自动安全保护功能，仪器通讯和控制采用GPIB控制卡，轴向、侧向观测位置由软件控制自动优化。具有控制蠕动泵进行智能清洗的功能。

6.6全面控制流动注射分析系统（FIMS），其分析汞的检出限优于0.01ppb。

6.7具有氢化物发生ICP-OES分析功能。

6.8支持液相色谱（HPLC）与ICP-OES联用进行形态分析。

6.9具有显示二维中阶梯光谱图的功能，并显示分析谱线在光谱图中的位置，所显示的二维光谱图必须与中阶梯分光所产生的二维图形*匹配。具有半定量分析功

能，即无需分析标准溶液，即可直接获得样品中超过50个元素的浓度半定量结果。

6.10具有在主软件运行时同时运行离线数据处理（Offline）的功能。数据档案管理功能，支持数据的备份、恢复、删除，支持数据的文本格式输出。具有与LabWorks LIMS无缝连接的功能，并具有与国产LIMS连接的接口。