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全自动双腔半导体快速退火炉RTP
所属分类：快速退火炉 RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，适用6寸8寸片快速热退火制程。 参考价面议 -
桌面型快速退火炉RTP,快速热处理退火炉
所属分类：快速退火炉 RTP-Table-6桌面型快速退火炉是在保护气氛下的桌面快速退火系统，以红外卤素灯管加热，精准控制升温，保证良好的重现性与温度均匀性，适用6寸快速退火制程。 参考价面议 -
半自动半导体快速退火炉RTP
所属分类：快速退火炉 RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气下的半自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 4-12 英寸片。 参考价面议 -
RPS远程等离子源SPR-08
所属分类：RPS电源 SPR-08是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应...... 参考价面议 -
微波等离子去胶机SPE-201P
所属分类：等离子去胶机 专为半导体封装的Plasma整体解决方案 参考价面议 -
ICP实验型等离子去胶机
所属分类：等离子去胶机 可做到聚合物去除、氧化硅或碳化硅刻蚀、刻蚀后表面清洁 参考价面议 -
ICP干法等离子去胶机ST-6100
所属分类：等离子去胶机 微波等离子去胶机反应速度快，反应时间短，处理过程温度低 参考价面议 -
半导体晶圆筒式去胶机ST-3300
所属分类：等离子去胶机 处理过程温度低，能在高气压下维持等离子体 参考价面议 -
ICP干法等离子去胶机
所属分类：等离子去胶机 可BAW/SAW工艺中的光阻去除，配备单腔双腔两种类型 参考价面议 -
RIE Plasma等离子去胶机
所属分类：等离子去胶机 可有效去除表面残留物、介质与介质间光阻去除 参考价面议 -
USC显示屏干式超声波除尘
所属分类：USC干式超声波除尘 3μm尘粒97%的清除率，6μm尘粒98%的清除率 参考价面议 -
SPA-5800大气等离子清洗机
所属分类：大气等离子清洗机 支持数字通信接口和模拟通信接口，可对接MES系统 参考价面议