产品名称：金相材料分析显微镜
产品品牌：HK-JXM200k
产品简介：JXM200金相材料分析显微镜采用平场消色差光学系统和落射式柯拉照明系统，同时在落射照明系统中设计 防反射结构，有效防止反射光干扰成像光线，从而使成像更清晰、视场衬度更好。

特点：

提供稳定可靠的操作机构,使成像更清晰,操作更简便。

显微镜镜体采用全新的人机工程学设计，结构匀称，实现镜体扩展积木化。

工作台、光强与粗微调的低位操作，提高了使用的舒适性。

广泛应用于各类半导体硅晶片检测、材料科学研究、地质矿物分析及精密工程等学科领域。

规格：

1、光学系统：有限远色差校正光学系统

2、观察筒：铰链式双目，30°倾斜，360°旋转，瞳距调节范围：54-75mm，双边±5屈光度可调；铰链式三目，固定式分光比，双目:三目=80%:20%

3、目镜：PL10X高眼点平场目镜，线视场 18mm

4、物镜：长工作距平场消色差金相物镜5X、10X、20X、50X、100X

5、转换器：内定位四孔转换器、内定位五孔转换器

6、调焦机构：粗微调同轴，带机械上限位和松紧调节装置, 粗调行程28mm，微调精度0.002mm

7、载物台：双层机械移动平台,附设180X145mm平板平台, 移动范围：76mmX50mm

8、照明系统：反射式柯拉照明，自适应宽电压90V-24V，6V/30W卤素灯，光强连续可调,带可变孔径光阑与视场光阑,视场光阑中心可调

9、摄影装置：摄影接筒（带PK卡口），3.2X摄影目镜

10、摄像装置：0.35X/0.5X/1.0X C型摄像接筒

11、其他可选功能：简易偏光6V30W透射照明系统