随着电子产品的应用领域在不断的扩大，半导体涉及的行业也越来越广泛，半导体工业不仅对于纯水的要求高，在产品制作的过程中将会产生大量的工业污水，因生产产品的原材料不同，所以产生的废水的废水性质也不同。

　　废水处理难点：

　　1、半导体废水处理污染物种类多，成分复杂;

　　2、含有多种重金属、氟、硅以及有机废水等;

　　3、含有高浓度的极细悬浮颗粒;

　　4、工业的污水排放量大;

　　5、废水浓度低，水质变化大;

　　6、废水中含金属离子种类较多，需分开收集进行处理;

　　工艺流程：

　　含氟废水：半导体含氰清洗水的处理一般采用两级碱性氧化法处理工艺，半导体废水处理设备设有机械搅拌系统、PH控制系统、ORP控制系统以及加药(酸、碱、氧化剂)系统，将废水pH值调节在10.5-11之间，ORP值300- -4oo mv，进行一级氧化破氰，反应时间为15 ~ 20min。

　　当进行二级氧化破氰时，废水的pH值调节在pH在10.5-11之间，ORP值300- -4oo mv,反应时间15 ~ 20min,将CN-氧化就为CN0-。

　　有机废水一般采用经济高效的生化法，如单独的好氧法或与缺氧法、厌氧法组合工艺，对于废水中COD、氨氮、总氮等常规污染物去除效果非常可观。.

　　金属离子废水则需针对不同废水不同种类进行选择，常用的有化学沉淀法、吸附法、离子交换法等。