随着电子产品应用领域日益扩大，半导体对我国发展具有重要的意义。半导体涉及行业广泛，根据生产原料及工序的不同，产生废水的废水性质也不同，但都存在着排水量大，污染能力强的特点，严重危害生态环境健康的同时也制约其发展。

根据常州半导体污水处理企业的特点，可将半导体废水分为以下几种，详细介绍如下：

1、含氟废水，废水主要来自于半导体生产工序的刻蚀段，由于使用了大量的氟化铵等试剂，产生的污染如氟化物、氨氮等浓度较高，废水一般呈强酸性；

2、有机废水，其污染物质主要是一些常规污染物，生产浓度跟生产工艺及操作管理水平关系较大，COD一般在200～3000mg/L；

3、金属离子废水，半导体废水中的金属离子种类众多，主要如铜、镍、锡、铅、银等，浓度一般在几十mg/L。

常州半导体污水处理企业回用工艺特点：

1、中水回用设备淤泥产出量低、臭气产出量低、能量需求量低，化学品需要量较小或为零。

2、资源利用经本系统处理后的回用水，满足严格的工厂回用水品质要求，可供应纯水系统或直接回用到生产线。

3、性价比高本系统操作便捷，抗冲击负荷，占地紧凑，稳定性高，运转成本低，经过大量成功案例验证。半导体生产废水主要来自车间的镀槽、清洗水等，废水中含有的主要污染物有：Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸碱等。半导体生产废水排放量大，废水污染物种类多，成份复杂，尤其是溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差异，使半导体废水回用对常规技术处理造成了挑战。