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FR-Mic：全自动带显微镜多点测量膜厚仪
具体成交价以合同协议为准
2024-06-17上海
- 型号
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产品简介
膜厚仪FR-Mic是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，可以将光斑缩小到几个微米，进而分析微小区域或者粗糙表面薄膜特征
详细信息
膜厚仪 FR-Mic 是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，可以将 光斑缩小到几个微米，进而分析微小区域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配备一台专 用计算机控 制的 XY 工作台，使其快 速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特 性 。也可以搭配自动平台测量 400x400mm 大小样品。
Thetametrisis利用 FR-Mic，通过紫外/ 可见/ 近红外可轻易对局部区域薄膜厚度，厚度映射，光学常数，反射率，折射率及消光系数进行测量。
【相关应用】
高校 & 研究所实验室
半导体制造 (氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻胶及其他半导体薄膜.)
MEMS 器件 (光刻胶, 硅膜等.)
LEDs, VCSELs 多层膜测量应用
数据存储
阳极处理氧化膜
曲面基底的硬化涂层
聚合物膜层, 粘合剂.
生 物医学(聚对二甲苯, 生物膜/气泡壁厚度.)
OEM或客制化应用
【特点】
实时光谱测量
薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量， 厚度映射
使用集成 USB 高品质彩色摄像机进行成像 (所視即所測)
【技术参数】
| 型号 | UV/VIS | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR | DUV/NIR | VIS/NIR | DVIS/NIR | NIR | NIR-N2 | |
| 光谱波长范围(nm) | 200–850 | 200–1020 | 200-1100 | 200–1700 | 370–1020 | 370–1700 | 900–1700 | 900-1050 | |
| 光谱仪像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 | 3648 | |
| 膜厚测量范围 | 5X- VIS/NIR | 4nm-60um | 4nm-70um | 4nm-90um | 4nm-150um | 15nm-90um | 15nm-150um | 100nm-150um | 4um-1mm(SiO2) |
| 10X- UV/VIS/NIR | 4nm-50um | 4nm-60um | 4nm-80um | 4nm-130um | 15nm-80um | 15nm-130um | 100nm-130um | 4um-400um(Si) | |
| 15X- UV/NIR | 4nm-40um | 4nm-50um | 4nm-50um | 4nm-120um | - | - |
|
| |
| 20X- UV/VIS/NIR | 4nm-25um | 4nm-30um | 4nm-30um | 4nm-50um | 15nm-30um | 15nm-50um | 100nm-50um |
| |
| 40X- UV/NIR | 4nm-4um | 4nm-4um | 4nm-5um | 4nm-6um | - | - |
|
| |
| 50X- VIS/NIR | - | - | - | - | 15nm-5um | 15nm-5um | 100nm-5um |
| |
| 测量n&k蕞小厚度 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm |
| |
| 准度 3. | 0.1% or 1nm | 0.2% or 2nm | 50nm or 0.2% | ||||||
| 精度 4.. | 0.02nm | 0.02nm | 5nm | ||||||
| 重覆性 5. | 0.05nm | 0.05nm | 5nm | ||||||
| 光源 | 氘灯&卤素灯(internal) | 卤素灯(internal)10000 小時 (MTBF) | |||||||
| 材料数据库 | >650内建材料数据库 | ||||||||
*测量面积(收集反射或透射信号的面积)与显微镜物镜和 FR-uProbe 的孔径大小有关。
| 物镜 | 光斑尺寸(μm) | ||
| 500μm孔径 | 250μm孔径 | 100μm孔径 | |
| 5x | 100μm | 50μm | 20μm |
| 10x | 50μm | 25μm | 10μm |
| 20x | 25μm | 17μm | 5μm |
| 50x | 10μm | 5μm | 2μm |
【工作原理】
规格如有更改，恕不另行通知
测量结果与校准的光谱椭偏仪和 XRD 相比较,
连续 15 天测量的标准方差平均值。样品：(1um SiO2 on Si.) ,
100 次厚度测量的标准方差，样品：1um SiO2 on Si.
超过 15 天的标准偏差日平均值样品：1um SiO2 on Si。
使用反射式物鏡
以上资料来自Thetametrisis，如果有需要更加详细的信息，请联系我们获取。
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