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DHMS 系列 磁控溅射镀膜仪

具体成交价以合同协议为准

2024-04-03杭州市
型号
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实验装置
产品简介
可采用直流(DC)溅射,溅射金属靶材制备金属膜,也可采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜
详细信息

可采用直流(DC)溅射,溅射金属靶材制备金属膜,也可采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜。可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和 PTFE 薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

技术参数

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