晶元半导体台阶测高显微镜介绍 VMM测量显微镜系列是观察、测量和处理系统化的显微镜阵容。 特点 ● 视场宽阔,可得清晰无闪烁正像 ● 高精度测量,同时具有大测量范围和高精度,适用于各种测量 ● 可选用高NA物镜,满足长工作距离的测量要求 ● 照明装置(反射/透射)可选用高亮度LED的照明或卤素照明 ● 利用可变孔径光阑进行无衍射观察测量 ● 各类尺寸的标准工作台 ● 快速释放装置便于测量工件大或测量工件数量多的快速移动工作台 ● 高位目镜观察 ● 便捷CCD图像成像,可选配多种CCD数码相机 观察成像 | | 偏光观察 观察过滤后只有一个方向振动的光。适于观察具有特殊光学特性的材料,如矿石和液晶。 | 微分干涉对比观察 在检测金属、液晶和半导体表面的微小划痕和阶差时很有效。 | | | 暗视场观察 挡住直射到物体上的光,只观察散射光,通过高对比度能观察到在亮视场看不到的划痕和粉末。 | 亮视场观察 最普通的观察方式,直接观察从工件表面反射的光。 | 新功能增强Z轴测量精度 ● 辅助对焦(FA) 新近研发的分光棱镜辅助对焦(FA)提供更锐利的图案,可在Z轴测量期间提供精确对焦。由于不同物镜焦深差异导致的测量误差被降到。 规格 ● 无限远系统,管镜200mm ● 倾斜角度30°,瞳孔距离55-75mm,正像 ● 高眼点,大视场WF10/22 ● 鼻轮螺纹M26X0.706 ● Z轴的长度180mm,微动精度0.002mm,测量精度(at20℃),XY-轴的(2.5+0.02L)um,L=测量长度(mm)在没有放物体分辨率为0.001mm ● 12V50W反射卤素灯 ● 3W高亮度LED光源 ● 可配置辅助调焦装置(FA) 技术参数 型号 | VMM-8Ⅰ型 | VMM-8Ⅱ型 | VMM-8 Ⅲ型 | VMM-8 Ⅳ型 | VMM-12Ⅰ型 | VMM-12Ⅱ型 | VMM-12Ⅲ型 | VMM-12 Ⅳ型 | 镜筒 | 1×光学管径,双目目镜,带有CCD1/2靶面接口 | 观察图像 | 正像 | 观测方法 | 辅助对焦系统 | - | - | 头部或照明器FA系统 | 头部或照明器FA系统 | - | - | 头部或照明器FA系统 | 头部或照明器FA系统 | 微分干涉对比 | 可选微分观测对比 | 目镜 | 10X(视场直径:25mm),可选十字分划板,可选:视场直径:22mm | 物镜(100x选配) | 95mm 2x, 5x,10x, 20x,50x | 60mm 5x, 10x,20x, 50x | 95mm 2x, 5x,10x, 20x,50x | 60mm 5x, 10x,20x, 50x | 95mm 2x, 5x,10x, 20x,50x | 60mm 5x, 10x,20x, 50x | 95mm 2x, 5x,10x, 20x,50x | 60mm 5x, 10x,20x, 50x | 照明装置 | 反射照明 | 内置孔径光阑,LED光源,无极亮度调节,可选卤素照明 | 透射照明 | 白色LED照明,无极亮度调节 | 工作台 | XY测量范围 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | 快速释放装置 | X轴和Y轴(标配) | 调零开关 | X轴和Y轴(标配) | 数显计器 | 显示轴 | 2轴或3轴 | 分辩率 | 0.0005mm(可选0.00002mm) | |
| | VMM-8-Ⅰ型主图 | VMM-8-Ⅱ型主图 | | | VMM-8-Ⅲ型FA主图 | VMM-8-Ⅳ型FA主图 | | | VMM-12-Ⅰ型主图-95mm | VMM-12-Ⅱ型主图-60mm | | | VMM-12-Ⅲ型FA主图-95mm | VMM-12-Ⅳ型FA主图-60mm | 介绍 95MM金相长工作距离明场物镜。 特点 ● 可见光成像 ● 无限远光学系统,管径焦距200mm ● 物镜螺纹M26 x 0.706 技术参数 平场复消色差M PLAN APO L | 数值孔径N.A. | 工作距离W.D. | 焦距f | 景深D.F. | 分辨率R | 视场 | 目镜(WF10/24) | 1/2"CCD摄像头 | 2X | 0.055 | 34.6 | 100 | 91μ | 5μ | Φ12 | 2.4x3.2 | 5X | 0.14 | 45 | 40 | 14μ | 2μ | Φ4.8 | 0.96x1.28 | 10X | 0.28 | 34 | 20 | 3.5μ | 1μ | Φ2.4 | 0.48x0.64 | 20X | 0.29 | 30.8 | 10 | 3.5μ | 1μ | Φ1.2 | 0.24x0.32 | 50X | 0.42 | 20.5 | 4 | 1.6μ | 0.7μ | Φ0.45 | 0.10x0.13 | 100X | 0.55 | 12.5 | 2 | 0.9μ | 0.5μ | Φ0.24 | 0.05x0.06 | 介绍 60MM金相平场半复消色差物镜。 特点 ● 可见光成像 ● 物镜螺纹M26 x 0.706 技术参数 名称 | 物镜 | 目镜(WF10/25) | 数值孔径N.A. | 有效工作距离W.D.(mm) | 焦距f′(mm) | 分辨率R(μm) | 物理焦深±Δp(μm) | 物方视场(mm) | 焦点深度±Δ(μm) | 5X | 0.15 | 11.6 | 40 | 2.1 | 16.3 | Φ5 | 38.3 | 10X | 0.3 | 6.3 | 20 | 0.9 | 3.1 | Φ2.5 | 7.8 | 20X | 0.4 | 10.3 | 10 | 0.69 | 1.8 | Φ1.25 | 3.5 | 50X | 0.8 | 2 | 4 | 0.34 | 0.4 | Φ0.5 | 0.8 | 100X | 0.80 | 1.96 | 2 | 0.34 | 0.2 | Φ0.25 | 0.6 | 介绍 45MM金相平场消色差明场物镜。 特点 ● 可见光成像 ● 无限远光学系统,管径200mm ● 物镜螺纹M20.32 技术参数 名称 | 物镜 | 目镜(WF10/25) | 数值孔径N.A. | 有效工作距离W.D.(mm) | 焦距f′(mm) | 分辨率R(μm) | 物理焦深±Δp(μm) | 物方视场(mm) | 焦点深度±Δ(μm) | 5X | 0.13 | 11.6 | 40 | 2.1 | 16.3 | Φ5 | 38.3 | 10X | 0.3 | 6.4 | 20 | 0.9 | 3.5 | Φ2.5 | 7.8 | 20X | 0.4 | 11.1 | 10 | 0.7 | 1.6 | Φ1.25 | 3.5 | 50X | 0.55 | 8.2 | 4 | 0.5 | 10.9 | Φ0.5 | 1.4 | 100X | 0.80 | 2 | 2 | 0.4 | 0.4 | Φ0.25 | 0.7 | 微分干涉介绍 微分干涉DIC在正交偏光的基础上,插入DIC棱镜,即可进行DIC微分干涉相衬观察。使用DIC技术,可以使物镜表面微小的高低差产生明显的浮雕效果,极大的提高图像的对比度。 5X、10X、20X专为DIC设计,使得整个视场的干涉色一致,微分干涉效果非常出色,高倍物镜DIC效果也较好。 |