TJ微孔矩阵掩膜版溅射掩膜板叉指电极掩模版激光加工精密切割

华诺激光承接各种图案定制，客户较好能提供包含尺寸的CAD版设计图。如果画图实在有困难，我们可以根据客户描述来绘制，同时我们还能对客户的掩膜版设计提供一些建议。

掩膜版的应用

每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面。

掩模和光刻工艺是很关键的，因为他们决定着器件的极限尺寸。除了紫外线，电子束和X射线也能用来对光刻胶进行曝光 。

1、低开模费,可以按设计人员的设计要求进行掩膜图形任意更改，成本低

2、能实现金属的半刻，增加公司LOGO，实现品牌化生

3、可达+/-0.0075mm的精度，满足不同产品的组装要求

4、复杂外形产品同样可以蚀刻，无需额外增加成本

5、没有毛刺，压点，产品不变形,不改变材料性质，不影响产品的功能

华诺激光，立足北京，服务京津冀 北京、天津联手为您服务，梁工欢迎来电，欢迎莅临！我们将竭诚为您服务！