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CVD系统T1500-XITD3Z
具体成交价以合同协议为准
2023-07-29郑州市
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产品简介
化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
详细信息
| | 设备简介： 化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。 | ||
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配置详情
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NBD-101E嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正； | |||||||||
| 产品型号 | CVDT1500-50ITG3Z | CVD T1500-60ITG3Z | CVD T1500-80ITG3Z | |||||||
| 炉管尺寸 | Φ50*1000mm | Φ60*1000mm | Φ80*1000mm | |||||||
| 工作温度 | ≤1450℃ | |||||||||
| 加热区尺寸 | 310mm | |||||||||
| 升温速率 | ≤20℃/min | |||||||||
| 电气规格 | AC220V 3KW | |||||||||
| 气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | |||||||
| 管道示意图 | | | ||||||||
| 进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | |||||||||
| 流量范围 | 20-250/20-800ml/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | ||||||||
| 工作压差范围 | 0-0.15MPa | |||||||||
| 低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | ||||||
| 抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | |||||||
| 进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm宝塔接头 | KF16/25 | |||||||
| 极限压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | |||||||
| 工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
| 电气规格 | AC220V | |||||||||
| 高真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | ||||||
| 抽气速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | |||||||
| 真空测量计 | 复合真空计 | |||||||||
| 极限压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | |||||||
| 工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
| 电气规格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | |||||||
| * 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询 | ||||||||||
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