管状炉式高温热CVD装置SFCV-1001佐藤真空

管状炉式高温热CVD装置SFCV-1001佐藤真空

真空蒸镀装置

本系列产品是用于研发和小批量生产的电阻加热式小型蒸镀设备。另外，本系列的一部分机种也可以搭载电子束(EB)。

HSV-3-30G，HSV-8-50，HSV-12-80

是一种管状炉式高温热CVD装置，适用于大学和研究机构开发石墨烯等碳氢化合物的各种材料。小批量、小尺寸的测试件可以简单操作，实现了小型化，同时大幅降低了成本。

另外，具有以往小型产品难以实现的5 ~ 100pa压力控制功能，可支持更多样的处理模式。针对碳氢化合物类可燃性气体，配备了检测报警停止机器运行、大气排放气体稀释单元等安全装置。

SFCV-1001，SFCV-1003，SFCV-1501

研究开发用卷炉是适合于研究开发，小批量生产的小型高性能卷模机。有等离子处理、溅射及蒸镀单元。

高真空排气装置

本系统有涡轮分子泵和油扩散泵两种类型，还准备了油旋转和干泵作为辅助泵，是一种能够根据客户的需求进行选择高真空排气系统。

TPS-50ZA,TPS-50ZB,TS-50ZC,TPS-220ZA,TPA-220ZB,TPS-220ZC,DPS-2-ZA,DPS-2-ZB,DPS-3-ZA,DPS-3-ZB,DPS-4-ZA,DPS-4-ZB