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MDA-20SA光刻机
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2023-02-26
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产品简介
产品描述：MDA-20SA 在线订购
详细信息
MDA-20SA光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比
型号：MDA-20SA
厂家链接：.cn/
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比
型号：MDA-20SA
厂家链接：.cn/
MDA-20SA
操作简单，可编程控制器（PLC）操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，电动操纵杆控制，电动变焦显微镜和工作台，显微镜位置控制系统
操纵杆控制，半自动
掩模版尺寸规格，用户订制
基板尺寸规格（大面积），用户订制
均匀光束规格，用户订制
紫外线光源：紫外线灯，5 kW
光束波长350~450 nm
光束均匀度<±7%
365 nm强度5 kW: ~45 mW/㎠
对准方法：操纵手柄控制半自动
对准精度1 um
工艺模式：软、硬、真空接触和接近
分辨率：透镜 >3 um，反射镜：>9 um
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