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MARIO NETWORK紫外线臭氧清洗机OPL2001
MARIO NETWORK紫外线臭氧清洗机OPL2001
OPL2001 OPL1102 OPL2003
高输出&长寿命灯搭载,0.1秒到999小时的定时关闭,搭载时间表,内置可简单调整距离的专用实验室千斤顶。附带互锁装置(可选)也有准备。
UV表面处理UV清洗/UV表面改性
UV臭氧清洗,UV臭氧改性,表面处理
254nm照度:20mw /cm2以上。也有30mw / m2的。(定制)
用于实验、研究开发,是日本具实际成果的台式设备。大学院,各种研究设施,亚洲欧洲实验/开发/生产用等广泛的用途被采用。表面处理(光表面改性,光清洗)
UV表面处理的机制包括:
UV所具有的能量:185nm波长UV引起的氧的臭氧化,254nm波长UV的臭氧活性氧分子化
为了被活用,能同时得到[UV的能量]和[活性氧分子],低压水银灯(185nm, 254nm同时发光灯)适合作为光源。作为秘诀使用石英玻璃的灯,可以得到优良的臭氧发生率。
OPL16N内置的110w灯产生的臭氧是15w的GL-15灯的156倍以上。在化学反应中,如果只是把氢和氧混合在一起,反应就无法进行,要使其产生反应,就要通过“燃烧”给予能量,使其产生反应。
UV清洗臭氧的氧分子和物质表面的有机物的化学反应中,UV作为其能量发挥作用。
该反应以“高浓度臭氧”、“UV能量强”促进,具体来说“强有力的洗净力带来的UV洗净效果”和“缩短时间的高效实验研究”等成果。本装置受欢迎的理由之一是能够同时获得强UV强度和高浓度臭氧。配备了大功率石英灯(185nm、254nm同时发光灯)。