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超快EUV/X射线源

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2022-06-02上海
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上海续波光电技术有限公司

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磁控溅射仪,电子束蒸发镀膜仪,离子减薄仪,微波等离子化学气相沉积系统(MPCVD),化学束外延系统,电磁场场分布测试仪,等离子处理,刻蚀机,光学软件与材料(金刚石),HFCVD,BSDF/BRED测量仪,电磁场仿真软件
产品简介
-氦气气体靶获得X射线参考指标:-laser:50TW,30fs,10Hz-bright:10^6photons/shot/0
详细信息

- 氦气气体靶获得X射线参考指标:

- laser: 50 TW, 30fs, 10Hz
- bright: 10^6 photons/shot/0.1% BW
- collimated: 10’s mrad
- ultrashort: 10’s fs
- broadband: 1-10 keV
- small source size: 1- 2 microns
- monitor the dynamics of material structure with femtosecond time resolution
- observation of ultrafast structural dynamics using an X-ray pulse
   (solid-liquid phase transition in a semiconductor) 
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