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PHI X-tool 全自动扫描型微区探针

具体成交价以合同协议为准

2022-05-10
型号
上海禹重实业有限公司

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产品简介
PHI X-tool是一款操作简单,同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的扫描聚焦X-ray系统,可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比,不采用光阑进行选区,极大的提高了XPS在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时,不需要增加磁透镜,即可得到**的灵敏度及**的信噪比,即使磁性样品,也可轻松应对。
详细信息

PHI X-tool是一款操作简单,同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的扫描聚焦X-ray系统,可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比,不采用光阑进行选区,极大的提高了XPS在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时,不需要增加磁透镜,即可得到**的灵敏度及**的信噪比,即使磁性样品,也可轻松应对。

性能特点

**的操作性

PHI X-tool软件支持直观的触摸屏操作,所有XPS测定过程都可在触摸屏上完成。用户可以自由选择手动操作模式和自动操作模式(自动定性、定量、分析及完成报告),操作者无论是否具有丰富的XPS操作经验,均能轻松应对。
自动参数设定、自动完成报告

PHI X-tool具备自动对焦功能(Auto-Z),使分析位置处于X射线的焦平面上,得到**的分析条件。其可实现中和参数的自动匹配,无论样品的导电性如何,均可轻松应对。
自动定性:实现谱峰自动识别
自动定量:自动选定谱峰定量范围
自动曲线拟合:可自动实现预定条件的曲线拟合
自动生成实验报告
多方式样品观察

在XPS分析中,样品观察,特别是微区定位至关重要。PHI X-tool可通过以下三种方式进行样品观察:a. 进样室高空间分辨率图像;b. 实时CCD成像;c. 二次电子像(SXI)。利用这几种方法观察样品,不论样品大小,表面形貌如何均可轻松确定测试位置。
详细的条件设定和直观的操作

结合材料和目的,可详细设定分析的条件。通过内置元素周期表,可设定各光电子峰和俄歇峰。通过更改通过能、步长、积分时间设定窄谱扫描参数。对每个样品可设置习惯的文件名和样品名称。
快速化学成像

采用扫描X射线和高灵敏度检测器及非扫描模式,可实现快速成像分析。每个点都可以直接调取全部的谱数据。化学态成像的空间分辨率、灵敏度、能量分辨率与仪器主指标一致。
采用PHI的***硬件设计

微聚焦扫描X-ray源;
双束中和系统,低能离子束及低能电子束自动配合;
浮动离子*,离子加速电压条件范围可达0~5kV

应用领域

Micro-Electronics 微电子, 电子封装
Polymer 高份子材料
Tribology 摩擦学
Magnetic 磁性材料, 硬盘, 蓝光光盘
Display Industries 显示工业
Graphene 石墨稀
Catalysis 催化剂
Energy related 能源产业
Glass 玻璃
Metal 金属
Ceramic 陶瓷
Semi-conductors 半导体
Bio-Medical 生医科学

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