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H20-UVL
具体成交价以合同协议为准
2022-03-11
- 型号
产品简介
H20-UVL真空紫外光谱仪在高真空环境下覆盖100-400nm（3-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm（3-6.5eV）
详细信息
H20-UVL真空紫外光谱仪在高真空环境下覆盖100-400nm（3-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm（3-6.5eV）。配备测微狭缝和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描。
搭配真空紫外光源，H20-UVL可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下，配备单通道探测器，H20-UVL还是一个性价比较高的真空紫外光谱分析系统。
主要特点
基于HORIBA Jobin Yvon技术，H20-UVL围绕一片具有像差矫正能力的4型凹面光栅设计。64°偏转角针对真空紫外波段优化。
这种简单的光学设计大幅降低了像散，提高像平面的光通量和光谱纯度，避免了传统的Czerny Turner光路在140nm以下因为多次反射而造成的光强损失。
应用领域
透射反射测量
紫外可调滤波/光源
激光谐波滤波
真空紫外质量控制
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