本装置是为减反射光学薄膜的大批量生产而设计制作的光学镀膜机。
采用了磁流体密封技术的中心旋转式基板架，保证了薄膜产品的重复性与均匀性

优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短

可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)

产品介绍

Gener-1800

· 反应性等离子源镀膜机

· SDAR 系列

· 器件

· 离子源

· 光学膜厚监控仪

本装置是为减反射光学薄膜的大批量生产而设计制作的光学镀膜机。

采用了磁流体密封技术的中心旋转式基板架，保证了薄膜产品的重复性与均匀性

优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短

可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)

规格

真空室 SUS304,Ф1800mm×2000mm(H)

基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）

基板架转速 30rpm(可调)

晶振式膜厚计 XTC/3+6点式水晶传感器

蒸发源 电子枪1台 　

性能

极限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下

抽气速度 10分（大气压～3.0×10-3Pa）

基板加热温度 350℃

安装要求

安装空间 约4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)

电力 3相，200V，50/60Hz，约80KVA

水流量 100升/分以上

压缩空气压力 0.5-0.7MPa

重量 约5000kg

日本光驰OTFC-1300镀膜机：主要用于量产高精度的带通滤光片产品，包括生物医疗、荧光检测及天文观测用的滤光片，可以使产品的光学性能及稳定性进一步得到保障，满足生物疗领域荧光滤光片对于高对比度、高信噪比、暗黑背景的要求。

OTFC-1300镀膜机的基本配置是：搭载了10KV双电子枪，750W的RF射频离子源，光学膜厚监控装置（Optorun制，HOM2-R-VIS350A），低温冷凝器（Polycold），油旋转机械泵 （Edwards E2M275）罗茨机械泵（Edwards EH1200）；多点和环型坩埚可镀200层以上，膜厚可达20000nm之多。这就意味着单片镀膜就可以达到截止深度OD5以上，不用再为了达到高OD值而再做两片胶合了。从而大大提升了滤光片的成像质量以及产品合格率。

下面介绍其中两个特点：

1.光学膜厚测量控制：

OTFC-1300镀膜机是利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程，这就使生产效率得以显著提高。光学膜厚监控技术已经成为当今光学薄膜成膜自动化的核心技术。可以对薄膜的厚度进行无损的、实时的测量，并在达到所需厚度时能及时给出控制信号。这就意味着镀膜更精准，公差更小，可以做到±0.1nm。

2. RF射频离子源：

（1）加工精度高，便于控制。离子束可以通过离子光学系统进行聚焦扫描，可以控制尺寸范围。高离子电流密度和均匀分布，照射面积能达到Ф1150mm以上。

（2）同使用灯丝型的离子源比较，它的寿命长，污染少。

（3）加工应力、变形极小。离子束加工工艺是一种原子级或分子级的微细加工，作为一种微观作用，其宏观压力很小，适合于各种材料和低刚度工件的加工，而且加工表面质量高。

（4） 动作安定性高，能长时间运转。

3.镀膜机明细参数：

真空室SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)基板架4片式工作架（或Ф1200 mm）基板架转速30rpm(可调)晶振式膜厚计XTC/3+6点式水晶传感器蒸发源电子枪1台性能极限真空7.0×10-5Pa以下抽气速度10分（大气压～3.0×10-3Pa）基板加热温度350℃安装要求安装空间约4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)电力3相，200V，50/60Hz，约80KVA水流量100升/分以上压缩空气压力0.5-0.7MPa重量约5000kg

转让二手日本2350光弛镀膜机

转让二手日本2350光弛镀膜机