NX-1000/2000整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定。

具备全部压印模式：热固化、紫外固化和压印。基于*的Nanonex气垫软压技术（ACP），不论模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形结构，NX-1000/2000均可对其校正补偿从而获得*的压印均匀性。

ACP消除了基板与模版之间侧向偏移，有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周期，终得到快速的工艺循环。

主要特点：

所有形式的纳米压印

热塑化

紫外固化 (NX-2000)

热压与紫外压印同时进行(NX-2000)

热固化 

气垫软压技术(ACP)

Nanonex技术

完美的整片基板纳米压印均匀性

高通量 

低于10nm分辨率 

快速工艺循环时间（小于60秒）

灵活性

4″, 6″, or 8″压印面积可选

各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印

方便用户操作 

基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作 

Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定

系统参数：

热塑压印模块

温度范围0~250℃ 

加热速度>300o℃/分钟

制冷速度>150℃/分钟

压力范围0 ~ 3.8MPa(500 psi)

紫外固化模块(NX-2000)

200W窄带紫外光源

365纳米或395纳米波长可选

全自动化控制

模版装载功能

4″/5″/6″模版可用于标配纳米压印系统 基板装载

基板装载

标配纳米压印系统可装载4″基板

6″和8″基板可选

各种尺寸及不规则形状模板及基板均可压印

*ACP技术可大限度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和基板给予大限度保护。

其他参数：

配有微软Windows的电脑控制系统 

用户友好的控制软件 

程序化控制压印温度、压力和时间 

真空和压缩空气操作由电脑控制 

手动装载/拆卸基板 

自动化压印操作 设备占地面积:31 × 44 英寸

(780 mm × 1110 mm) 

应用领域:

纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、*材料、生物科技、纳米流道等。