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CMD2000 中试型纳米*研磨分散机

具体成交价以合同协议为准

2017-09-22上海市
型号
CMD2000
参数
适用领域:科研 产地:进口 加工定制:是
上海依肯机械设备有限公司

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该企业相似产品
乳化机,均质机,分散机,胶体磨,剪切泵,乳化泵
产品简介
中试型纳米*研磨分散机设计*,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
详细信息

中试型纳米*研磨分散机,纳米*分散机,*研磨分散机,是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。 

当固体颗粒分散到一种液体中时,形成一种悬浮液。当一种液体分散到另一种液体中时,形成一种乳浊液。在一种乳浊液的两个液相间的界面处,表面张力开始发生作用。新表面的产生需要能量。在没有外部影响的情况下,每个液相体系均企图以较少的能量达到乳浊液状态。因此,总是会有产生较小界面的倾向,这阻碍任何乳浊液的形成。 


纳米*纳米TiO2具有十分宝贵的光学性质,在汽车工业及诸多领域都显示出美好的发展前景。纳米*还具有很高的化学稳定性、热稳定性、无毒性、超亲水性、非迁移性,且*可以与食品接触,所以被广泛应用于抗紫外材料、纺织、光催化触媒、自洁玻璃、防晒霜、涂料、油墨、食品包装材料、造纸工业、航天工业中。 
*是广泛使用的白色素,如油漆、防晒霜和药片包衣。通常市场上都提供不同级别的粉末产品,但是实际使用时还会对细度提出新的要求。同时,这类粉体碰到液体时极易团聚。IKN 系列混合分散设备为快速分散而设计,达到窄粒径分布,并防止结块。

IKN工业设备用于*分散和研磨的优点
缩短工艺时间。IKN高剪切乳化分散设备可以迅速地混合分散*粉末,并消除结块和团聚。IKN也提供PLD和PLC粉体/液体混合机,将粉体直接加入液体,无需循环处理,一次性通过便可成型。
提高品质。IKN高剪切混合机可以打碎结块粉体,并与液体充分混合。这样可以改善产品光泽和透明度,这两个特征由分散好坏直接决定。
减少资金投入。IKN磨机可以***大程度缩小粒径,达到窄粒径分布。IKN分散研磨设备的流量比同类研磨设备高出很多,但也可达到相类似的效果。模块化设计的IKN 2000系列产品,可以帮助客户节约资金投资。


中试型纳米*研磨分散机,纳米*分散机,*研磨分散机

纳米*研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。 

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出***终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器


,纳米*分散机,*研磨分散机

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产品参数

适用领域 科研
产地 进口
加工定制
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