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通用电气两年内中国研发投入5亿美元

2011/3/4 10:55:03    4799

来源：仪表网

摘要：

　　3月1日，通用电气中国研发中心总裁陈向力在北京参加一个会议会后接受记者专访时表示，2011-2012年通用电气在中国的研发投入会达到5亿美元，其中2011年不少于1亿美元。
　　
　　“目前我们已经在中国建立了3个研发中心，沈阳、西安和成都，今年下半年和明年还会再成立新的研发中心，可能会在中部和南部城市，今年年底会再招聘600名研发人员。”“下一步会继续加大与国内企业的合作，也不排除会选择一些并购目标。”陈向力称。
　　
　　根据媒体公开报道，通用电气2011年1月宣布在成都筹建通用电气创新中心，并有望在年内开始运行。
　　
　　他还表示，今年年初通用电气（GE）已经与中航工业在芝加哥签署了共同组建航空电子合资公司的合同。“航空电子是我们未来发展的一个重点方向，公司致力于成立的航空电子供应商。”
　　
　　根据通用电气提供的资料，截至2009年底GE“绿色创想”研发投入超过50亿美元，到2015年将新增100亿美元用于研发。

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