“集成电路材料中关键杂质检测方法研究和国家标准制定”项目顺利通过验收
- 2023/10/17 8:51:23 19061
- 来源：上海市计量测试技术研究院
该项目通过质谱和加氧技术的联合运用，有效解决光刻材料检测过程中碳沉积问题，关键杂质检出限达到0.01 μg/kg，回收率为88.5%~119.8%；通过预吹扫、双瓶吸收、吸收速度和吸收液体积的优化，提升了电子气体的吸收效率，吸收效率大于92%，技术成果形成国家标准一项；通过运用大流量雾化器，解决了抛光材料堵塞进样系统的问题，关键杂质的回收率为84.0%~120.0%，相对标准偏差小于10%，三种方法的线性相关系数均大于0.999。
项目已为集成电路企业提供200余次的技术服务，加快了材料国产化的进程。项目技术人员组织召开培训会议6次，促进集成电路材料检测的标准化水平提升。
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