德州仪器推出基于二氧化硅隔离技术的光耦仿真器
- 2023/9/21 11:04:20 20511
- 来源：全球TMT
【仪表网 产品快讯】近日，德州仪器(TI)推出基于信号隔离半导体技术的全新光耦仿真器产品系列，旨在提高信号完整性、降低功耗并延长高电压工业和汽车应用的使用寿命。这是德州仪器第一款与业内常见的光耦合器引脚对引脚兼容的光耦仿真器，可无缝集成到现有设计中，并利用基于二氧化硅 (SiO2) 的隔离技术提高可靠性。
德州仪器接口产品总经理Tsedeniya Abraham表示：“随着电气化进程的不断推进，以及高电压电源系统的日益复杂，工程师需要在确保正确隔离级别的同时，提高其产品的性能和使用寿命。我们全新的光耦仿真器产品系列不仅满足了对高可靠性、高性价比隔离技术持续增长的需求，也践行了我们投资高电压技术的承诺。”
光耦合器通过集成一个LED来隔离信号，在过去一直是工程师的常用选择，但光耦合器需要预先进行超裕度设计，用于补偿LED不可避免的老化效应。德州仪器的光耦仿真器使用SiO2隔离栅，无需进行超裕度设计，可完全消除LED的老化效应。德州仪器的SiO2隔离栅具有 500VRMS/μm 的高介电强度，使新器件产品系列可为终端产品设计提供长达40多年的保护。光耦仿真器还能提供高达3,750VRMS的隔离保护，同时降低高达80%的功耗。
此外，该产品系列可耐受 –55°C 至 125°C 的宽工作温度范围，同时可提供比光耦合器高多达10倍的共模瞬态抗扰度。
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