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《等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备》征求意见

2023/4/14 14:32:18    27659
来源:仪表网
摘要:《等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备》编制完成并征求意见,时间截止到2023年5月12日。(反馈至biaozhun@ceun.org)
  【仪表网 行业标准】近日,由全国城市工业品贸易中心联合会归口管理,武汉友美科自动化有限公司等相关单位共同起草的《等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备》编制完成并征求意见,时间截止到2023年5月12日。(反馈至biaozhun@ceun.org)
 
  本文件规定了等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备的术语和定义、设备构成、要求、现场调试。本文件适用于等离子体化学气相沉积光纤预制棒制备设备的生产与检验。
 
  设备构成主要包含以下部分:PCVD沉积床;PCVD流量柜;自动控制与保护系统;PCVD熔缩床;石墨炉系统;预热炉;真空系统。
 
  各种卤化物SiCl4、GeCl4的蒸气和O2、C2F6、BCI3等气体的混合物从气体流量控制柜中输出到石英玻璃反应管中,石英玻璃管另一端连接到真空泵,使石英玻璃管中的混合气体维持在1kPa左右。石英玻璃管被一只金属谐振腔环绕,频率为2450MHz的微波能量输入到谐振腔中,使反应管中的原料气体电离形成等离子体并产生化学反应。谐振腔沿石英玻璃管快速运动,形成厚度小于1μm的薄膜,均匀地沉积在管壁内,当达到一定厚度时,将玻璃管进行熔缩,支撑光纤预制棒。
 
  控制系统控制内容包括:
 
  ——主控系统:应能自动以曲线图形式记录各个流量值、平移、旋转的速度、温度等;
 
  ——反应物流量控制系统:应能通过测量载气量和载气与原料比率,控制物料蒸汽流量;
 
  ——反应物料料温控制系统:应实时监测物料温度,并实时进行温度调整;
 
  ——微波腔体载台平移控制系统:应能通过交流伺服驱动器实现沉积平移,每段斜率应能独立调节,其相关技术指标应能在计算机屏幕上动态显示;
 
  ——反应管控制系统:应能任意调节,角度精确到1°;
 
  ——压力控制系统:混合腔的压力及出气端压力应能通过调节氧气的补给量自动控制;
 
  ——预热炉炉温控制及升降动作系统:应能对炉温进行实时调节,并应实现预热炉的升降、开合动作要求;
 
  ——冷却水路监控系统:应能对冷却水路进行实时监控。
 
  PCVD熔缩设备及控制系统包括:
 
  ——主控制:应实时监控走速、旋转速度、压力、流量等;
 
  ——流量控制:应根据工艺需求对氢氧焰的火力大小进行控制;
 
  ——旋转控制:应采用交流伺服系统保证旋转运动匀速进行;
 
  ——平移控制:应根据工艺需求实现离合切换的快慢走速,并能在计算机上动态显示;
 
  ——压力控制系统:应同时控制进气端压力、出气端压力、火焰大小;
 
  ——熔缩设备总控制:应实现全过程的全自动控制。
 

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