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在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作,双盘独立控制,磨盘无级调速,独特罩壳设计可有效保障磨样安全,机箱内装有吸尘装置可避免环境污染,该机启动平稳、传动功率大、噪音低,可满足不同材料的制备要求,提高试样的磨抛质量和制备效率,是一种非常理想和功能的金相制样制备。
产品亮点
1. 无级调速控制
2. 下方配有吸尘装置,可吸走磨削物
3. 安全锁扣,1/4磨面,保护操作员
适用范围
适用于光谱研究的试样磨平。
| 型号 | GMP-2-300 |
| 磨盘直径 | 300mm |
| 砂纸直径 | 300mm |
| 转速 | 无级调速100~1400r/min 或四档速300, 600, 900, 1400 r/min |
| 转向 | 顺时针或逆时针 |
| 电机功率 | 550W |
| 显示及操作 | 数码管显示,薄膜按键操作,带吸尘装置 |
| 输入电源 | 单相220V, 50Hz, 10A |
| 外形尺寸 | 820×440×940mm |
| 净重 | 122kg |