原子层沉积设备 BTF-ALD-100

1、铝型材机架+防指纹拉丝不锈钢面板，触摸屏人机操作；

2、样品台尺寸：可放置4英寸样品，兼容4inch及以下样品尺寸；

3、样品加热温度：300℃，控制精度±0.5℃；样品台表面设置有阳极氧化铝片托，    方便清洗和维护保养；

4、本底真空1：配置高性能双极旋片真空泵，抽速不小于16 m³/h，满足对本底真    空和原子层沉积工艺的要求；

5、真空计：美国MKS数字式压力传感器，检测范围10^-5至10⁵ Torr；

6、反应腔室：沉积腔室下腔室为316不锈钢电抛光处理，上腔盖为6061铝材阳极    氧化。腔室内有可拆卸阳极氧化铝内衬，方便清洗；腔室及真空抽气管路的    采用全氟橡胶O型圈密封，真空漏率小于5*10^-7Pa.L/s；

7、独立前驱体源：配置2路加热金属前驱体源和1路水前驱体源，金属前驱体源   和水前驱体源采用两个独立的进气口输运到真空反应腔室，每个进气口配置独   立的吹扫流量计和管道；在未进入反应腔室前不能混合，避免前驱体源在输运   管道到发生交叉污染；

8、每路加热前驱体源系统的加热温度可达到200℃，温度控制精度±0.5℃。    配Swagelok高温ALD专用阀门，高温手动隔膜阀，50mL不锈钢源瓶；

尾气处理装置：外热式不锈钢真空热阱前驱体处理器，加热温度600℃， 

9、控制精度±1.0℃；

10、吹扫流量计：2路模拟量质量流量计，控制精度为满量程的1%；

11、电源：50-60Hz，功率5KW，380V交流电源；

12、控制方式：PLC+工控机+悬停触摸屏操作；

13、沉积非均匀性：4英寸内沉积300cycle氧化铝非均匀性<±1%；

14、维修工具1套、说明书及其它技术资料；

15、配套工艺：提供沉积氧化铝、氧化铪、氧化钛、氧化锌、氧化锆等材料的标准沉积工艺。

16、提供设备改造和根据工艺需求升级。