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德国海德堡激光直写系统
具体成交价以合同协议为准
2026-03-09北京市
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产品简介
Applications 应用范围
该激光图形发生系统用于涂有光刻胶的各种基片，玻璃，硅片，或其他平面材料。
RETICLE（分划板），ASICS（晶片），MEMS（微机电系统），SENSOR（传感器），
REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICS(折射及衍射光学), MOEMS(微光机电),
MCMS, HYBRIDS, INTEGRETED OPTICS（集成光学）, µTAS，SAW ect.
海德堡公司（Heidelberg Instruments 简称HIMT）坐落于德国海德堡市，HIMT成立于1984年，主要生产大小型高精密德国海德堡激光直写系统不仅可光绘掩膜板上（photo mask），也可以直接光绘在各种基片上（芯片、石英玻璃、陶瓷基板等）。同时设备本身具有高精密测量功能。目前已超过200多台设备在安装使用，设备*大加工面积达70"X90"欢迎来电询问及索取技术资料！
详细信息
德国海德堡激光直写系统－DWL66激光直写光绘系统，是海德堡公司考虑到客户低成本投入，及增加与客户互动关系理念下所设计的机台，虽价格不高，但他仍然维持了高精密的光绘品质，在微影技术与光学领域的研究发展上都获得了客户相当的满意口碑。同时重接单到持续增加中，更证明了DWL66系统的设计开发理念，用*小的花费提升*高的附加价值。
技术参数：
加工零件尺寸：150X150mm
绘图头焦距 Write Lens | 10 mm | 20 mm | 40 mm | ||
*小线宽或间距 Minimum Feature | 0.6um | 1µm | 2.5 µm | 5 µm | 10 µm |
书写格网 Write Grid | 20nm | 40 nm | 100 nm | 200 nm | 400 nm |
CD均匀度 CD Uniformity | 80nm | 100 nm | 220 nm | 440 nm | 880 nm |
线宽均匀度 Line width Uniformity | 100 nm | 200 nm | 400 nm | 600 nm | 1000 nm |
线边粗糙度 Edge Roughness | 60 nm | 80 nm | 120 nm | 180 nm | 280 nm |
对准精度 Alignment Accuracy | 200 nm | 250 nm | 500 nm | 1 µm | 2 µm |
定位精度 Position Accuracy | 0.4 um | 0.6 µm | 1 µm | 1.5 µm | 2 µm |
读写时间 Writing time ( 80x | 70 hour | 19 hour | 3 hour | 0.9 hour | 0.3 hour |
Applications 应用范围
该激光图形发生系统用于涂有光刻胶的各种基片，玻璃，硅片，或其他平面材料。
RETICLE（分划板），ASICS（晶片），MEMS（微机电系统），SENSOR（传感器），
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