DY-HT1MF 低温双面黑体炉

（价格为参考价格，具体价格以合同为准）

【应用范围】

DY-HT1MF-200双面大面源低温黑体源在光学、电子学、材料科学等领域得到了广泛的应用。黑体的温度通常调节在-10到 80之间，面积从 50mm到 200mm可选。

双面大面源低温黑体源具有优异的温度分辨率、稳定性、温度均匀性.

【特点】

  1) 双辐射面工作模式：两个独立200mm×200mm发射面，提高了使用效率与灵活性，可同时校准多个设备。‌

  2)黑体辐射源采用分体式设计，在智能控温仪上集成控制，带通讯可接入上位机，通过上位机控制，标准19寸3U机柜式控制器。

  3)自动智能调节：内含MH逻辑智能调节功能，以及参数自整定功能的控制算法。

  4)屏幕内置多点独立的温度修正功能。

  5)通讯接口RS232通讯串口。支持定制 RS485、以太网 及无线远程操控操作。

  6)可定制提手版设计，可定制中 心高尺寸。

  7)根据客户要求可以考取任何地方的语言界面，方便出口。

  8)如配置升级款，可与我公司德美量界App实现一键互联，内置温度单位换算器、计量规程数据库等。

  9）升降温迅速、稳定时间短，适合多次数据检测的需要。

  10）双面黑体辐射源在实现相同功能的情况下，体积更小，占用空间更少。

  11）特殊的靶面处理技术，使得靶面温度更加均匀，设备长时间使用和频繁升降温也不会出现表面破损和掉渣现象；

  12)出厂检测采用HEITRONICS辐射温度传递高温计用于辐射温度的量传, 在相应的固定点黑体辐射器标定以后，提供黑体辐射源之间温度传递。

【技术参数】