NS200 5Å重复性台阶高度仪

NS系列5Å重复性台阶高度仪0.01埃分辨率，5Å超高精度精准测量微观检测微观轮廓。搭载线性可变差动电容传感器（LVDC），在半导体、光伏、MEMS等精密制造与科研领域一站式解决多场景微观参数检测需求。

一、核心优势

1.超高精度，数据无偏差

13μm量程下实现0.01埃分辨率，5Å超高解析力，精准捕捉几纳米至几百微米的台阶形貌，为严苛检测标准提供硬核数据支撑。

2.全能检测，无需多设备

同步完成台阶高度（纳米-1050μm）、表面粗糙度（Ra/Rz等数十项参数）、膜层厚度及应力分布测量，覆盖工艺全流程检测需求，简化操作流程。

3.全域适配，降低投入成本

不受被测样品反射率、材料种类、硬度限制，广泛适配半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件等多行业，避免设备闲置浪费。

4.智能高效，提升检测产能

支持单区域、多区域批量测量及3D可视化重建，搭配SPC统计分析功能，批量样品一键检测，数据趋势直观呈现，减少人工干预。

二、核心功能

1.全流程参数检测，适配多元工艺

（1）台阶高度测量：精准量化蚀刻、溅射、沉积、CMP等工艺的材料沉积/去除量，保障工艺稳定性与一致性。

（2）粗糙度&波纹度分析：通过微观轮廓曲线计算多维度参数，满足高精密产品质量管控要求。

（3）表面应力检测：兼容金属、薄膜、微纳材料等多种材质，为材料性能评估与研发创新提供关键数据。

2.智能化测量模式，兼顾效率与精准

（1）单区域快速检测：影像导航定位，聚焦后一键启动，快速完成单点精准测量，适配小批量样品检测。

（2）多区域批量测量：阵列式扫描路径设置，横向纵向自由调整，批量样品自动完成全点位检测，提升检测效率30%以上。

（3）3D可视化呈现：自动完成扫描面全覆盖检测与3D图像重建，微观形貌直观可溯，便于工艺问题排查。

（4）SPC统计分析：生成批量数据变化趋势图表，为质量追溯与工艺优化提供数据依据，助力精益生产。

3.便捷设计，降低使用与维护成本

（1）双导航光学影像系统：500W像素彩色相机（正视/斜视可选），扫描路径精准规划，轨迹实时跟进，避免测量偏差。

（2）快速换针技术：磁吸式测针设计，现场秒级更换，搭配软件快速标定功能，保障换针后精度与重复性，减少停机维护时间。

磁吸针实物外观图（330μm量程）

三、行业应用

1.半导体制造

沉积/蚀刻薄膜厚度检测、CMP工艺表面平整度管控、抗蚀剂台阶高度分析，助力芯片良率提升。

2.光伏&显示面板

太阳能涂层膜厚测量、AMOLED屏微结构检测、触控面板铜迹线精度分析，适配新能源与显示产业升级需求。

3.MEMS&微纳材料

微型传感器形貌表征、柔性电子器件薄膜厚度检测，支撑微纳技术研发与量产质控。

4.科研与高校

材料表面应力分析、微加工工艺研发数据采集，加速科研项目落地与技术转化。

四、实战案例：光伏ITO导电薄膜高效检测方案

针对太阳能光伏行业ITO导电薄膜测量需求，NS200台阶仪定制化解决痛点：

1.全电动载物台+360°旋转台，快速定位测量标志位，大幅缩短定位时间；

2.自定义多区域测量模式，批量样件一键完成多点位检测，减少重复操作；

3. SPC统计分析功能，直观呈现测量数据变化趋势，为工艺调整提供数据支撑。

NS系列5Å重复性台阶高度仪以精准、高效、适配、智能为核心，为客户提供全场景微观测量解决方案。如需了解产品详细参数、申请样品测试或定制行业专属检测方案，欢迎随时联系中图仪器。

（注：产品参数与功能将随技术升级持续优化，具体以实际沟通为准）