HUV-100便携式紫外线照射装置ORC

HUV-100便携式紫外线照射装置ORC

HUV-100便携式紫外线照射装置ORC

UV照射装置， 便携式紫外线照射装置HUV-100，HUV-300，QRU-2161-F，QRU-2161-E，QRU-2161-D，QRU-2161-H，HMW-615N-4，VUM-3073F，VUS-3100，VUS-3100-R，VUE-3020-172，QRM-2288，紫外线托盘清洁器

 产品介绍

用途

接着剂、树脂、涂层剂、墨水、涂装等的UV硬化

特征

灯塔之家片手可以轻松应对的重量

灵活紧凑的形状

握起来舒适的握把

高级感的不锈钢细纹车身

电源单元电子式点灯回路

小型化＆轻量化

通过提高效率实现节能

易于理解的操作面板

QRU-2161系列

用途

狭小照射范围的UV光照射

小规模的照射实验

作为各种UV照射用途

特征

反射镜可以选自聚光型和扩散型

被照射物和面积可根据需要选择灯的输出

可以与UV输送机等一起使用。

HMW-615N-4

用途

在半导体制造工艺、液晶基板制造工艺等形成微细图案的工艺中，该装置通过照射UV来去除基板表面剩余的有机物，从而实现无接触去除有机物污染。该装置可以在不损坏基板表面的情况下进行表面清洗和改质。

特征

基板损伤小，具有分解有机物的高能力，搭载了独特的低压UV灯。

利用震动基板的模式，基板上的UV光量会均匀照射。

基板加热不会太多。

臭氧切割照射方式和氮气气体置换照射方式都可以适用。

VUM-3073F

在半导体制造工艺、液晶基板制造工艺等形成微细图案的工艺中，该装置通过照射UV来去除基板表面剩余的有机物，从而实现无

接触去除有机物污染。该装置可以在不损坏基板表面的情况下进行表面清洗和改质。

特征

基板损伤小，具有分解有机物的高能力，搭载了独特的低压UV灯。利用震动基板的模式，基板上的UV光量会均匀照射。基板加热不会太多。臭氧切割照射方式和氮气气体置换照射方式都可以适用。