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Gasboard-2060 红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺

具体成交价以合同协议为准

2026-07-14武汉市
型号
Gasboard-2060
参数
品牌:四方仪器 产地:国产 加工定制:是 检测原理:NDIR 检测气体:SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2 量程:1~264ppm(0~200mTorr) 重复性:±0.5% 线性:±1%F.S. 检测限:1ppm
四方光电(武汉)仪器有限公司

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产品简介
红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,可用于半导体沉积和清洗工艺的端点检测、腔室清理终端检测,能够减少清洁时间,节约成本,提高产量。
详细信息

红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺


产品名称:红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺

产品型号:Gasboard-2060


红外气体传感器 半导体行业薄膜沉积工艺产品概述

红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,可用于半导体沉积和清洗工艺的端点检测、腔室清理终端检测,能够减少清洁时间,节约成本,提高产量。


产品特性

)使用NDIR技术,多气体监测支持(SiF4、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)

(2)响应时间快,高灵敏度

(3)无耗材

(4)模拟/数字通信

(5)模块化设计,便于集成


红外气体传感器技术参数


检测原理NDIR
检测气体SiF4、CF4、SF6、NF3、CO2
量程1~264ppm(0~200mTorr)
重复性±0.5%
线性±1%F.S.
检测限1ppm



应用领域

半导体行业薄膜沉积工艺CVD设备的EPD气体检测










四方光电(武汉)仪器有限公司为四方光电股份有限公司的全资子公司,简称:四方仪器,前身为成立于2010年的湖北锐意自控系统有限公司,是一家专业提供气体成分及流量测量方案的高新技术企业,服务于工业过程监测、环境监测、汽车/发动机排放检测、科学研究气体分析等领域。


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产品参数

品牌 四方仪器
产地 国产
加工定制
检测原理 NDIR
检测气体 SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程 1~264ppm(0~200mTorr)
重复性 ±0.5%
线性 ±1%F.S.
检测限 1ppm
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