$item.Name

首页>机械设备>制热设备>电阻炉

参考价:

  • 面议
KJ-T1200-S60K-4C 四路高温真空CVD设备

具体成交价以合同协议为准

2023-10-28郑州市
型号
KJ-T1200-S60K-4C
郑州科佳电炉有限公司

免费会员 生产厂家

该企业相似产品
箱式炉,管式炉,真空炉,气氛炉,义齿烧结炉,烤瓷炉,氧化锆烧结炉
产品简介
产品介绍:KJ-T1200-S60K-4C型四路高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成,温度可以达到1200度,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计,可以对多种气体进行精确的混气,然后导入到管式炉内部
详细信息

产品介绍:


KJ-T1200-S60K-4C型四路高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成 ,温度可以达到1200度,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计,可以对多种气体进行精确的混气,然后导入到管式炉内部。

KJ-T1200-S60K-4C系列快速退火炉炉管两端安装真空法兰,真空度用分子泵可以到10-5Torr,机械泵可到10-3Torr。炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m。为取得加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s,是低成本快速热处理的理想炉子。

 

应用范围:

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。


规格参数:

产品名称 四路高温真空CVD设备
产品型号 KJ-T1200-S60K-4C
工作温度 1100°C
温度 1200°C
加热速率 建议:0- 10°C/min     {:0-20℃/min}
加热区 三温区
加热区长度 200+350+200mm
控温精度 ±1°C
炉管直径 OD60mm
炉管长度 大约1200mm-1400mm
真空法兰 两个不锈钢密封法兰,法兰上已经安装数字式真空显示计,和阀门通过机械泵真空压力可以达到5x10-2 torr,泄漏率6 mtorr/min
温控 智能PID多段程序控温
加热曲线 30段可编程
功率 4KW
电压 220V,50HZ,单相
质子流量计 4路精密质子流量计:数字显示、气体流量自动控制。
MFC 1范围:  0~100 sccm
MFC 2范围:  0~200 sccm
MFC 3范围:  0~200 sccm
MFC 4范围:  0~500 sccm
气路:4路
流量精度: 0.2%
进气和出气接口: 1/4" 卡套
一个混气罐。
每路气路都有一个独立的不锈钢针阀控制。 
通过控制面板上的旋钮来调节气体流量。
 


 


标准配件:

 

质子混气系统1台、双旋机械泵1台、K型热电偶1支、气炼石英炉管1根、不锈钢法兰1套、不锈钢炉钩1、刚玉炉塞2对、高温手套1副、刚玉坩埚2个、氢气检漏器1个、说明书1份



注:坩埚可按用户需求选配合适的款型
 

 

 

 

 1、我公司对所供设备提供质保一年保修服务(易损件除外),在保修期内因设备质量原因造成的设备损坏或故障,均予以免费维修。保修期满后,仍提供终身的、优质的维修服务。
 2、在设备使用过程中如遇故障的,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
 3、我公司设提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。
 4、我公司技术人员可提供(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。
 5、本公司可提供运输服务,包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全(用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等)。
 6、本公司所有产品均有欧盟CE质量认证。

 

 

相关技术文章

同类产品推荐

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

仪表网采购电话